技術(shù)特點(diǎn)
火焰水解法制備高純度合成石英
在潔凈廠房內(nèi),將高規(guī)格四氯化硅(SiCl4)在氫氧焰中水解生成亞微米二氧化硅(SiO2)顆粒,一個(gè)或者
多個(gè)用于反應(yīng)地噴燈將亞微米顆粒堆積成柱狀粉末體(soot),精確的火焰溫度控制和摻雜工藝實(shí)現(xiàn)柱體
徑向合軸向均勻的密度分布合預(yù)訂的折射率分布。
粉末體在氯氣(Cl2)合氦氣(He)的加熱爐內(nèi)被充分脫水除雜,然后燒結(jié)成高純度透明玻璃預(yù)制棒。
氣相軸向沉積工藝制備芯棒
軸向生長粉末體,燒結(jié)時(shí)無中心縮合孔,具備四大工藝中最低的羥基含量,可制備零水峰光纖;
氟摻雜工藝,降低芯層二氧化鍺含量, 具備更低的本征損耗
自主知識產(chǎn)權(quán)多噴燈技術(shù),豐富折射率剖面設(shè)計(jì),可制備G652,G657以及G655系列光纖。
外部氣相沉積工藝制備包層
高沉積速率,大尺寸。
延伸技術(shù)
實(shí)現(xiàn)預(yù)制棒芯棒芯,包層直徑的精確控制,光纖幾何,光學(xué)指標(biāo)同一性更好。
產(chǎn)品種類
具有滿足G. 652 D,G657A1, G657A2 以及G655拉絲生產(chǎn)的光纖預(yù)制棒系列。
關(guān)鍵技術(shù)指標(biāo)
具有不同平均外徑和有效長度的光纖預(yù)制棒,平均外徑從90~200mm, 有效長度從1000mm到3000mm;
光纖產(chǎn)品指標(biāo)達(dá)到并優(yōu)于ITU-T標(biāo)準(zhǔn);
VAD芯棒技術(shù)使光纖在1383nm基本無附加吸收,達(dá)到零水峰光纖制作要求。
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